HELIOS INLINE-TN

태양전지의 코팅 측정

Silicon Nitride의 두께와 굴절률
웨이퍼 기반 태양전지의 경우 반사방지코팅, 표면 처리 및 확산 차단막이 높은 태양 전지 효율과 장기 안정성을 달성하는데 중요한 역할을 합니다.

 

SiN(a-SiNx: H) 코팅의 우수한 특성때문에 널리 사용되며 증착 동안의 가스 압력 및 셀 온도와 같은 공정 파라미터는 SiN 층 두께, 색상 및 광학 상수 n 및 k에 큰 영향을 미칩니다. 공정 최적화를 가능하게하는 정확한 코팅 분포도를 얻기 위해서는 시간과 기술이 필요합니다.

 

기존의 측정 기술은 오프라인 및 측정용으로 준비한 웨이퍼에서만 SiN 특성을 측정할 수 있었습니다.
NXT는 생산공정에서 Inline 적용으로 SiN코팅 두께 측정 솔루션을 제공 합니다.

Silicon Nitride의 Inline 측정

NXT는 SiN Layer의 굴절률뿐만 아니라 층 두께를 측정하는 고유한 장비를 제공합니다. Helios Inline-tn 시스템은 Inline 용도로 설계되었으며 기존 생산 라인에 설치할 수 있습니다.

 

코팅의 비균질성, 코팅 물질의 표류, 웨이퍼 절단, 텍스처링 불균일성과 같 은 공정 내 불안정성과 비균질성의 원인을 찾아내 감소시킴으로써 셀의 품질과 효율성을 향상할 수 있습니다.

Inline에서 작동

Helios Inline 측정 시스템은 코팅 공정 바로 직후 부분에 장착하여 측정하는 것이 바람직하며 대량 생산 공정에서 전수검사에 적용할 수 있는 측정 장비 입니다.

Highlights of Helios Inline-tn

SiN 코팅 측정
• Layer 두께 : d
• 굴절률 : n

 

생산 및 연구개발에 사용
• 인라인/비접촉 비파괴 웨이퍼 전수 검사
• 비접촉 및 비파괴 검사 측정
• 정적, 동적 측정

 

다양한 Wafer 측정 가능
• mc-wafers (polished, rough or textured)
• pc-wafers (polished, rough or textured)

 

다양한 Texture타입 측정 가능
• 등방성(Isotropic) 화학 식각
• 이방성(Anisotropic) 화학 식각
• RIE (Reactive Ion Etched)

 

다양한 증착 공정에서 사용 가능
• PE-CVD
• Magnetron Sputtering

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Helios INLINE-tn

Inline 측정 헤드

Inline 설치 예 : 태양전지가 있는 5 X 5 캐리어의 대각선 스캐닝

HELIOS Offline

웨이퍼 태양광 솔루션을 위한 빠른 오프라인 측정
HELIOS Offline 측정 솔루션
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