HELIOS LAB-TN

태양전지의 코팅 측정

Silicon Nitride의 두께와 굴절률
웨이퍼 기반 태양전지의 경우 반사방지코팅, 표면 처리 및 확산 차단막이 높은 태양 전지 효율과 장기 안정성을 달성하는데 중요한 역할을 합니다.

 

SiN(a-SiNx: H) 코팅의 우수한 특성때문에 널리 사용되며 증착 동안의 가스 압력 및 셀 온도와 같은 공정 파라미터는 SiN 층 두께, 색상 및 광학 상수 n 및 k에 큰 영향을 미칩니다. 공정 최적화를 가능하게 하는 정확한 코팅 분포도를 얻기 위해서는 시간과 기술이 필요합니다.

Silicon Nitride의 측정

산업계에서 입증된 분광기술과 효율적인 측정 알고리즘을 통해 속도와 정확성을 모두 최적화하였습니다.

Helios LAB-tn의 특징

Helios LAB-tn은 사용하기 쉬운 1축 샘플 테이블을 갖춘 측정 시스템 으로 코팅된 웨이퍼 굴절률뿐 아니라 층 두께에 대한 코팅 프로파일 스캔을 몇 초만에 만들 수 있습니다.

• 단일 포인트 측정
• 층두께
• 굴절률
• 수동 1축 위치 결정 테이블
• 웨이퍼 코팅 프로파일 스캔
• 비용 효율적인 코팅 측정 도구

Highlights of Helios LAB-tn

Silicon Nitride 층두께 및 굴절률
• Offline / 비접촉 및 비파괴 측정
• 고속 수동 프로파일 스캔 기능

 

다양한 Wafer 측정 가능
• mc-wafers (polished, rough or textured)
• pc-wafers (polished, rough or textured)
• 125 mm X 125 mm / 156 X 156mm

 

다양한 증착 공정에서 사용 가능
• PE-CVD
• Magnetron Sputtering

 

쉬운 조작
• 사전 구성된 맵핑 템플릿
• 조작에 특별한 기술이 필요하지 않습니다.
• Wafer의 측정 위치를 설정하십시오. 이후 Start Measurement를 클릭하면 측정이 시작됩니다.

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Helios LAB-tn

웨이퍼를 올려놓은 테이블은 좌우로 이동할 수 있으며 테이블 전체를 앞뒤로 움직일 수 있습니다. 따라서 6인치 태양열 웨이퍼의 모든 측정 위치로 신속하게 이동할 수 있습니다.

SiN 코팅된 두께와 굴절률의 측정

HELIOS Inline

코팅공정 직후 태양광 웨이퍼의 SiN코팅 두께 및 굴절률의 인라인 측정
HELIOS Inline 측정 솔루션
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