HELIOS SCAN-TN

태양전지의 코팅 측정

Silicon Nitride의 두께와 굴절률
웨이퍼 기반 태양전지의 경우 반사방지코팅, 표면 처리 및 확산 차단막이 높은 태양 전지 효율과 장기 안정성을 달성하는데 중요한 역할을 합니다.

 

SiN(a-SiNx: H) 코팅의 우수한 특성때문에 널리 사용되며 증착 동안의 가스 압력 및 셀 온도와 같은 공정 파라미터는 SiN 층 두께, 색상 및 광학 상수 n 및 k에 큰 영향을 미칩니다. 공정 최적화를 가능하게 하는 정확한 코팅 분포도를 얻기 위해서는 시간과 기술이 필요합니다.

Silicon Nitride의 측정

산업계에서 입증된 분광기술과 효율적인 측정 알고리즘을 통해 속도와 정확성을 모두 최적화하였습니다.

Helios SCAN-tn의 특징

Helios SCAN-tn은 1분 이내 코팅된 웨이퍼의 굴절률뿐 아니라 Layer 두께에 대한 코팅 분포도를 확인할 수 있는 자동 측정 시스템입니다.

 

• Layer 두께
• 굴절률
• 자동 XY위치 결정 테이블
• 맵핑 사전 구성 가능
• 자동 교정
• 자동 코팅 분포도 측정
• 단일 포인트 측정

태양 전지 측정 자동 맵핑 기능을 갖춘 Helios SCAN-tn 시스템

HELIOS SCAN-tn의 특징

Silicon Nitride 층두께 및 굴절률
• Offline / 비접촉 및 비파괴 측정
• 고속 맵핑 가능 측정기술(SCAN-TN)

 

다양한 Wafer 측정 가능
• mc-wafers (polished, rough or textured)
• pc-wafers (polished, rough or textured)
• 125 mm X 125 mm / 156 X 156mm

 

다양한 Texture타입 측정 가능
• PE-CVD
• Magnetron Sputtering

 

쉬운 조작
• 사전 구성된 맵핑 템플릿
• 조작에 특별한 기술이 필요하지 않습니다.
• Recipe를 클릭하면 측정이 시작됩니다.

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Helios SCAN-tn

HELIOS Inline

코팅공정 직후 태양광 웨이퍼의 SiN코팅 두께 및 굴절률의 인라인 측정
HELIOS Inline 측정 솔루션
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