OLED┃LCD

NXT의 경험과 지식

유기발광다이오드(OLED)의 생산은 3 nm ~ 500 nm 두께의 인듐- 주석-산화물 또는 유기층과 같은 다양한 물질의 박막 코팅 공정에 기반을 두고 있습니다.

NXT는 OLED 스택에 현재 사용되는 유기 및 무기 Layer를 포함한 모든 유형의 Layer를 Inline, Offline으로 측정할 수 있는 제품 그룹을 개발했습니다.

증착하는 동안 다양한 공정 변수들이 유기막의 두께 및 광학상수 n&k에 영향을 미칩니다. 박막 두께 측정에서의 경험을 바탕으로 특수 제작된 광학 부품은 두께, 광학상수 n&k 측정에 필요한 분광반사율, 투과율을 측정 신뢰성•속도•정밀도를 보장하도록 설계되었습니다.

측정 원리

박막의 전면 및 후면 반사의 위상차는 간섭을 일으키고 각 층 내부의 흡수는 파장의 진폭을 변화시킵니다. 이 현상은 박막의 층 두께와 굴절률(n) 및 소광계수(k)를 측정하기 위해 사용됩니다. 분광반사율, 투과율의 스펙트럼을 기록한 후, 모델 및 측정이 완벽하게 일치할 때까지 광학 특성 n 및 k에 대한 층 두께 및 파라미터가 변화되는 수학적 계산이 수행됩니다.

R(λ) = f (n(λ), k(λ), t) R=Reflectivity, n=굴절률, k=소광계수, t=두께

나노미터급(㎚)

METIS Offline/Inline
XELAS-OLED Offline/Inline

마이크로미터급(µm)

TCM Offline/Inline
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