XELAS LAB / SCAN-OLED

OLED의 측정 –
Layer 및 Stack의 두께 및 n&k

유기발광다이오드(OLED)의 생산은 3 nm ~ 500 nm 두께의 인듐- 주석-산화물(ITO)막 또는 유기층과 같은 다양한 물질의 박막 코팅 공정에 기반을 두고 있습니다. 증착하는 동안 다양한 코팅 공정 변수 들이 유기막의 두께 및 광학상수 n&k에 영향을 미칩니다.

ITO 막의 전도성 및 표면 거칠기는 OLED의 광학적 성질을 변화시킵니다. 균일한 막의 분포 및 절대 두께는 OLED 품질에 매우 중요합니다. 그러므로, 광학상수 n&k에 대한 지식과 막 두께의 정확한 관리는 생산공정에서 필수요건 입니다.

OLED offline 측정

NXT는 표면 거칠기를 고려하여 층 두께를 측정할 수 있는 측정 솔루션을 제공합니다. 유기, 무기물질로 구성된 Layer 또는 Stack의 굴절률 및 소광계수를 제공합니다. OLED offline 시스템은 연구•개발용 측정에 최적화되어 있으며 향후 고객 요구사항에 따라 업그레이드 가능합니다.

Xelas LAB-oled의 주요 특징
oo

OLED Layer 측정
• 3 nm ~ 500 nm 막 두께
• 분광학적 재료 특성 : n(λ), k(λ)
• 표면 거칠기
• ITO에 대한 굴절률 프로파일링

 

생산 및 연구개발에 활용
• 표준 시료 및 특수 개발 케이스의 Offline 측정
• 비접촉 비파괴 검사방식
• 시료의 단일점 측정 또는 연속 측정 가능
• 비용 효율적인 모듈형 형식
• 자동 내부 교정
• SCAN 모델의 경우 측정 지점 x, y 맵핑 가능

 

다양한 단일막 및 다층막에 적용
• 유기물질
• 유전체 층
• 전도성 층

 

NXT만의 독창적인 Oscillatory modeling tool 제공: n&k에 대한 파라미터 세트

PDF-Download
Xelas LAB-oled / Xelas SCAN-oled

ITO Layer 두께 3차원 맵핑

OLED 샘플의 Offline 측정 예

XELAS-OLED Inline

유기, ITO Layer의 두께
XELAS-OLED Inline 측정 솔루션
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